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成膜条件を制御することにより研磨同様の平坦性を実現し、成膜後の研磨を不要としました。研磨が不要になったことにより、研磨剤の残渣やキズに対しての懸念がなくなりました。
ITO膜のドメイン構造が均質なので、綺麗なパターニングエッジに仕上がります。また、通常のITO膜と同様に低抵抗で、膜応力が小さいため、基板へのストレスもありません。
このカタログについて
| ドキュメント名 | FLAT ITO膜 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 828.5Kb |
| 関連製品 | |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | ジオマテック株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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