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対応基板：PC、ゼオネックス、ガラス
金属膜と誘電体膜のハイブリッド構成により、光の干渉を利用して反射効率を高め、成膜条件を最適化することにより、過酷な環境化においてもダメージを受けない高耐久膜を実現しました。
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このカタログについて
| ドキュメント名 | 【試作承ります】高耐久アルミ増反射膜 |
|---|---|
| ドキュメント種別 | 製品カタログ |
| ファイルサイズ | 652.8Kb |
| 登録カテゴリ | |
| 取り扱い企業 | 伊藤光学工業株式会社 (この企業の取り扱いカタログ一覧) |
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このカタログの内容
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Our Technology 高耐久アルミ増反射膜
✺技術概要
金属膜と誘電体膜のハイブリッド構成により、光の干渉を利用して
反射効率を高め、成膜条件を最適化することにより、過酷な環境
化においてもダメージを受けない高耐久膜を実現しました。
✺技術特徴
・高反射率：Rave≧95％
・高耐久膜：105℃×1,000Hr
60℃・95％×1,000Hｒ
・対応基板：PC、ゼオネックス、ガラス
光学分光特性 耐久性試験結果
＊上記データは参考値であり保証値ではありません。
伊藤光学工業株式会社 高耐久アルミ増反射膜 Ver.1-01