MINILAB-060 ｜ MiniLab-060 フレキシブル薄膜実験装置

MiniLab-060 フレキシブル薄膜実験装置の製品概要

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置
下記蒸着源から組合せが可能
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・電子ビーム蒸着
・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4
【主仕様】
・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）
・真空排気：真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着：最大4点（Model. TE1～TE4蒸着源）
・有機蒸着：最大4点（Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４
・CVD（熱CVD, PECVD）
・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能（*オプション）
・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4
・膜厚制御：Inficon社製 SQM-160（又はSQC-310） 2チャンネル成膜コントローラ
・ユーティリティ：電源200V ３相 13A, 水冷3ℓ/min, N2ベントガス0.1Mkpa
・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, バイアス印加ステージ, ドライポンプ , ロードロック機構

この製品の利用用途

真空薄膜実験、開発用途
・真空薄膜、電子基板デバイス用薄膜実験
・金属膜（Al, Au, Ag, Pt, Ti, *Ni, *Fe, Mo, Sn, etc..)
・絶縁膜 酸化膜 窒化膜（SiO2, ITO, TiN, MgO, HfO2, ZnO, etc.）