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MINILAB-090 | MiniLab-090 フレキシブル薄膜実験装置

シリーズ【MiniLab(ミニラボ)】フレキシブル薄膜実験装置

グローブボックス収納可能 PVD, CVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

MiniLab-090 フレキシブル薄膜実験装置 の販売情報

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MiniLab-090 フレキシブル薄膜実験装置の製品概要

グローブボックス収納可能 PVD, CVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。

・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大4
・マグネトロンスパッタリングカソード x 4
・電子ビーム蒸着
・最大Φ8inch加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃)
・RF/DCエッチングシステム
・CVD(熱CVD, PECVD)

【主仕様】
・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー
・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可)
・真空排気:真空/ベント自動制御
・抵抗加熱蒸着:最大4点(Model. TE1~TE4蒸着源)
・有機蒸着:最大4点(Model. LTEC-1cc/5cc)
・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8)
・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4
・プロセス制御:手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能(*オプション)
・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4
・膜厚制御:Inficon社製 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ
・ユーティリティ:電源200V 3相 13A, 水冷3ℓ/min, N2ベントガス0.1Mkpa
・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, バイアス印加ステージ, ドライポンプ

この製品の利用用途

電子基板デバイス用薄膜実験
・金属膜(Al, Au, Ag, Pt, Ti, *Ni, *Fe, Mo, Sn, etc..)
・絶縁膜 酸化膜 窒化膜(SiO2, ITO, TiN, MgO, HfO2, ZnO, etc.)

MiniLab-090 フレキシブル薄膜実験装置の関連ドキュメント

製品カタログ

【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置 (2.0 MB | 日本語)

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