MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉

MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉の製品概要

小型 省スペース Φ4〜8inchウエハーアニール装置 Max2000℃ 研究開発・小規模生産用

安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』用超高温実験炉。
◉Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar）
◉3種類のヒーター材質：
・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch
・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch
・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch
◉使用雰囲気：
・真空・不活性ガス（グラファイト）
・還元雰囲気（TiC3コーティング）
◉試料台サイズφ4inch〜φ8inch
◉特注ウエハーホルダ（ウエハートレー）製作可能
◆主な特徴◆
・自動シーケンス操作：真空引〜ベント〜ガス導入を実行
・上部扉より内部試料室にアクセス
・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能）
・高真空雰囲気対応（ターボ追加：1x10-5Torr）
・インターロック8系統の状態がタッチパネルインターフェイスで確認
◆3種類のヒーター材質◆
・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch
・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch
・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch
◆基本仕様◆
・断熱材：グラファイト, タングステン, モリブデン, 他
・電源仕様：AC200V 70A 14KW（*8inch 2ゾーンの場合）
・Max2000℃
・使用雰囲気：真空・不活性ガス, 還元雰囲気
・プログラム温調計、C熱電対
◆オプション◆
・フルオート自動プロセス運転（オプション）
・自動APC制御（オプション）：
-1) Upstreamコントロール：MFC供給量をPIDループ自動制御、又は
-2) Downstreamコントロール：排気側開度自動調整
・基板回転機構
・SECS/GEM通信

この製品の利用用途

◉SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、及びその他先端基礎技術開発部門で活用いただけます。