レーザーテック

レーザーテック株式会社

常に時代をリードする最先端技術で、世の中にない検査・計測装置を開発し続けてきた、レーザーテック。
市場ニーズをリアルタイムで捉え、独自の光応用技術に裏付けられた付加価値の高い検査・計測装置は、研究機関や生産ラインの現場を支え続きてまいりました。
オンリーワンの技術力、品質、そして充実したサポート体制は、半導体関連装置、エネルギー・環境関連製品、レーザー顕微鏡、FPD関連装置の分野で、高い評価と信頼をいただいております。
これからも、世の中にない新しい価値を生み出し、社会の発展に貢献してまいります。

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CLIOS用ペリクル検査・貼り付けシステム

大型フォトマスクパターン欠陥検査装置とインラインで連結しペリクルの異物検査から貼…

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リソグラフィプロセス検査装置

20nm以降のウェハ用マクロ欠陥検査装置

レーザーテック

LI712用ペリクル検査・貼り付けシステム

LI712とインラインで連結しペリクルの異物検査から貼り付けまで自動処理

レーザーテック

ウェハエッジ検査装置

ウェハ外周部の歩留定量管理とプロセス異常の解析用途に

レーザーテック

液晶用10世代対応大型マスク欠陥検査装置

10世代対応大型マスクを高速/高感度で検査

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フォトマスク欠陥検査装置

28nmノード以降の半導体デバイス用フォトマスク欠陥検査装置

レーザーテック

大型フォトマスクパターン欠陥検査装置

微細化の進む大型マスクを高感度で検査

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EUVマスク裏面検査/クリーニング装置

EUVマスク裏面の異物検出・高さ測定・クリーニング機能を1台に統合

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膜厚ムラ検査装置

イメージセンサのレジスト塗布、カラーフィルタ・レンズ成形、BSI向けウエハ薄化工…

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位相差測定装置

g,h,i線の3波長の位相差・透過率測定が可能に

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塗工ムラスキャニングシステム

リチウムイオン電池の電極シートの塗工工程管理、品質向上に最適な検査機

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ペリクル/フォトマスク異物検査装置

90nmノード以降のフォトマスクに対応する高速・高感度の異物検査装置

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位相シフト量測定装置

業界標準機のKrF用位相シフト量測定装置

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大型マスクブランクス欠陥検査装置

従来機から検査性能を一新

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中大型フォトマスクパターン欠陥検査装置

中・大型フォトマスクの多様化、微細化ニーズに高品質・高感度検査で対応

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TSV裏面研磨プロセス測定装置

TSV裏面研磨プロセスでのSi厚さ、TSV深さ、Remaining Si厚さ測定…

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位相差/透過率測定装置

フォトマスクの洗浄・ペリクル貼り付け後に位相差・透過率測定が可能に

レーザーテック

マスクブランクス欠陥検査装置

設計ルール10nm以降の最先端半導体フォトマスク用マスクブランクス欠陥検査装置

レーザーテック

卓上型太陽電池変換効率分布測定機

結晶系、薄膜、CIGS、有機などあらゆるタイプのセルに対応

レーザーテック

太陽電池分光感度分布測定機

セル全面の分光感度分布を測定

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超高温観察レーザー顕微鏡システム

本装置は株式会社米倉製作所が販売しております。弊社は、超高温観察レーザー顕微鏡シ…

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DUVマスクレビューステーション

高い分解能で欠陥検査後の欠陥観察が可能

レーザーテック

太陽電池変換効率分布測定機

太陽電池セルの変換効率分布を可視化

レーザーテック

ウェハバンプ検査測定装置

バンプの高精度3D形状測定、ウェハ外周部の品質管理に

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透明ウェハ欠陥検査/レビュー装置

GaN on Siや透明ウェハなどを高速で検査する 高感度欠陥検査/レビュー装置

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ウェハ欠陥検査/レビュー装置

次世代プロセスに求められる微小欠陥検出を実現した高感度欠陥検査レビュー装置

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SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置

表面検査およびフォトルミネッセンス(PL)検査の両方を備えた検査装置

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EUVLマスク・サブストレート/ブランクス検査装置

SEMATECHとの共同開発によるEUVLマスクブランクス欠陥検査装置

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レーザーマイクロスコープ

6つの機能を1台で 高度な連携であらゆる観察・測定領域を網羅

レーザーテック

マスク欠陥検査装置

デザインノード20nm~10nm以降に対応できる半導体マスク検査装置

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