• 最大 10、20、50 m の幅広い測定範囲と様々なインタフェースの組み合わせにより、
あらゆる工場の環境で簡単かつ迅速なシステムへの組み込みが可能。
• 信頼性の高い高精度な測定により、プロセスの品質と安定性の向上を支援。
• 測定やスイッチングの頻度が高いため、高速マテリアルフローに対応。
• 40 klx までの耐外乱光により、光学的に厳しい条件下でも使用が可能。
• -30℃ ~ +65℃の温度範囲により、屋外使用+低温下での使用が可能。
• 適正な保有コストと高い性能レベルにより投資額を短期で回収。
ジック株式会社は、ドイツの光学技術者、エルヴィン・ジックが1946年ミュンヘンにて設立したSICKドイツ本社100%出資による日本法人。 ジックは本社ドイツを中心として、ヨーロッパ、アメリカ、ア...
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