nanoPVD-S10A
◉ nanoPVDは、最大1000layer, 50filmのレシピを作成する事が可能。
ユーザの作成したフィルムレイヤーごとのプログラム(真空引/ベント、成膜時間、RF/DC電力・時間、MFC流量、圧力、加熱・回転速度など)で連続自動運転〜Windows PCでデータロギングができます。
【主な仕様】
・RF/DCマグネトロン方式
・2inchマグネトロンカソードx3源(標準1源)
・RF電源:150W 自動マッチング
・DC電源:850W
・対応基板サイズ2inch、4inch
・基板回転・上下昇降・加熱(500℃)オプション
・プロセスガス制御:MFC x 1(Ar標準、最大3系統増設:N2, O2)
・バラトロンセンサ+PIDループ制御(オプション)
・寸法:750(W) x 580(D) x 600(H)mm
・重量:約70kg
・電源:200VAC 50.60Hz 15A
・チャンバーサイズ:Φ225(内径)x 250mm
・真空系:TMP + RP(ドライポンプ オプション)
・ペルチェ冷却機構
*特注仕様対応いたします。当社までご相談ください。
主な用途 | 各種電子デバイス薄膜実験 メタル導電性薄膜、絶縁膜、化合物薄膜、他多数アプリケーションに対応 |
---|---|
URL | http://www.thermocera.com/products/nanopvds10a.html |
半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、 「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより ...
〒 103-0027
東京都中央区日本橋 新槇町ビル別館第一 2階