【nanoPVD】卓上型スパッタリング装置
nanoPVD-S10A
最高性能 優れた膜質 コストパフォーマンスに優れたR&D用卓上型マグネトロンスパッタリング装置
◉ nanoPVDは、最大1000layer, 50filmのレシピを作成する事が可能。
ユーザの作成したフィルムレイヤーごとのプログラム（真空引/ベント、成膜時間、RF/DC電力・時間、MFC流量、圧力、加熱・回転速度など）で連続自動運転〜Windows PCでデータロギングができます。
【主な仕様】
・RF/DCマグネトロン方式
・2inchマグネトロンカソードx3源（標準1源）
・RF電源：150W 自動マッチング
・DC電源：850W
・対応基板サイズ2inch、4inch
・基板回転・上下昇降・加熱（500℃）オプション
・プロセスガス制御：MFC x 1（Ar標準、最大3系統増設：N2, O2）
・バラトロンセンサ+PIDループ制御（オプション）
・寸法：750(W) x 580(D) x 600(H)mm
・重量：約70kg
・電源：200VAC 50.60Hz 15A
・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x 250mm
・真空系：TMP + RP（ドライポンプ オプション）
・ペルチェ冷却機構
＊特注仕様対応いたします。当社までご相談ください。
| 主な用途 | 各種電子デバイス薄膜実験 メタル導電性薄膜、絶縁膜、化合物薄膜、他多数アプリケーションに対応 |
|---|---|
| URL | http://www.thermocera.com/products/nanopvds10a.html |
テルモセラ・ジャパン株式会社
半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、 「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより ...
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