nanoCVD-8G, nanoCVD-8N
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間
◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機
◆特徴◆
・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理
・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能
・専用ソフトウエア標準装備,CSVファイルで出力PCでデータロギング
・USBケーブル接続,PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能
・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他
◆Model. nanoCVD-8G(グラフェン用)◆
・グラフェン生成用,真空プロセス制御
・ロータリーポンプ標準付属(オプション:TMP, Diffusion or Dry Pump)
・ガス供給3系統(標準)
・試料加熱ステージMax1100℃
・Kタイプ熱電対
◆Model. nanoCVD-8N(CNT用)◆
・CNT生成用,常圧プロセス制御
他同上
※ H2, Ar, N2, Ethanol, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。
主な用途 | ・大学教育機関 ・各研究機関での基礎・応用研究 ・材料開発 ・その他グラフェン応用開発、先端デバイス開発など |
---|---|
URL | http://www.thermocera.com/products/nanocvd.html |
半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、 「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより ...
〒 103-0027
東京都中央区日本橋 新槇町ビル別館第一 2階