【ホットステージ】基板加熱機構 Max1800℃
HS
超高温基板加熱ユニットに、上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント
◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応
◉ 基板上下昇降（基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式）：ウエハー搬送・受渡用
◉ 基板回転機構：面内温度均一加熱
◉ RF(1KW)/DC(800V)バイアス印加：逆スパッタリング
◉ 使用環境に応じて10種類の豊富なエレメントからの選択：
グラファイト, CCコンポジット, ハロゲンランプヒーター, グラファイト/SiCコーティング, グラファイト/PBNコーティング, PGコーティング, AlNヒーター, 他
◉ 各種真空フランジ接続：ICF, ISO(KF/LF), JIS(VG/VF)フランジ
◉ K, C熱電対付属
◉ その他オプション：温度制御ユニット, Inc or SiC試料ホルダー
| 主な用途 | 【用途】 CVD/PVD装置、真空蒸着装置、スパッタリング装置、太陽電池成膜プロセスでの高温アニール、など 【実例】 ・TCVD. PECVD. スパッタ等の成膜装置 ・既存800℃成膜装置の加熱機構部から、基板温度1000℃用ホットステージへ改造 ・新規プロセス評価機、試作機への搭載 |
|---|---|
| URL | http://www.thermocera.com/products/hotstage.html |
テルモセラ・ジャパン株式会社
半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、 「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより ...
〒 103-0027
東京都中央区日本橋 新槇町ビル別館第一 2階