半導体用フォトマスク欠陥検査装置
MIS-CAシリーズ
半導体用フォトマスクの欠陥検査が可能
・高速・高感度Die-DB検査に対応
・CD欠陥を敏感に検出
・オフラインレビューが可能（検査と同時処理の場合はクラスタPCが別途必要）
・DieとDB検査領域の混在検査が可能（オプション）
・MIS-CA1804T/180nmデザインルールに対応（最小検出欠陥サイズ:250nm）
・MIS-CA1303T/130nmデザインルールに対応（最小検出欠陥サイズ:180nm）
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| 主な用途 | 130-180nmデザインルールの半導体用フォトマスクの外観検査 |
|---|---|
| URL | https://www.tktk.co.jp/product/electronics/blanks/#tabpanel03 |
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企業情報
株式会社東光高岳
東光高岳は、電力流通システムを一貫してカバーする製品とサービスを提供する中で培った計測・伝送・制御のコア技術をもとに、半導体の製造に欠かせない部品・パーツの検査装置を開発しています。
〒 135-0061
東京都江東区豊洲5-6-36 ヒューリック豊洲プライムスクエア8F